日本半导体产业迎来历史性转折点——国内首台极紫外光刻机（EUV）的安装工作正式启动。
根据日经亚洲12月19日的报道，日本新兴半导体代工企业Rapidus已顺利接收其首台ASML EUV光刻机，并已于12月14日在北海道的芯片制造工厂内开始了安装工作。
Rapidus此次引进的光刻机由荷兰的ASML公司生产，型号为NXE:3800E，其晶圆的吞吐量较前代提升了37.5%，完全能够满足Rapidus对于2nm芯片制造的需求。
这台EUV系统体积巨大，整套设备重达71吨，高度约为3.4米，每个单元的体积堪比一头鲸鱼。它集成了特殊的光源、透镜等技术，对振动和其他干扰的敏感度较低。
安装工作在日本北海道千岁市的创新集成制造工厂（iim-1）进行，共分为四个阶段，预计设备安装将在本月底完成。
Rapidus的首席执行官小池淳义表示，公司将从北海道出发，向全球供应最先进的半导体产品。
除了EUV光刻机，Rapidus还计划在其iim-1工厂内安装更多先进的半导体制造辅助设备和全自动材料处理系统，以优化2nm GAA半导体工艺的制造流程，并计划进一步建设新的半导体代工服务，即快速和统一制造服务（rums）。
Rapidus正与美国科技巨头IBM合作开发多阈值电压GAA（全环绕栅极）晶体管技术，目标是在2025年春季利用最先进的2纳米工艺开发原型芯片，并计划在2027年实现量产。这一时间表与台积电计划在2025年开始量产2nm芯片的时间表形成竞争。
ASML是目前全球唯一的EUV光刻机供应商，每台设备的成本超过1.8亿美元，去年全球仅交付了42台。
日本曾在1980年代占据全球超过50%的半导体市场份额，但在2000年代退出了先进逻辑制程芯片的竞争。日本政府希望通过大规模应用EUV光刻工具，重振日本在先进芯片生产领域的竞争力。
